央视点名表扬国产光刻机，新一代设备将下线，高端光刻胶也来了

国产光刻机取得新突破，新产品马上就要投入产能，央视着重提出表扬，生产芯片的关键材料也取得了新进展。

光刻设备迎来国产化

近年来华为屡屡遭到国外企业的排挤，尤其是手机芯片领域，由于缺乏自主生产芯片的能力，华为研发的麒麟系列芯片无法实现量产，国产高端芯片的发展被按下了暂停键。而造成这一切的根本原因，就是国内缺乏高端的芯片制造设备，光刻机。

就像电脑离不开主机一样，芯片的生产也离不开光刻机的参与，这类产品凭借上万个零部件的组装，以及高难度的核心工艺，成了各大芯片制造商可望不可及的一款设备。纵观全球，将这类产品的生产发售牢牢掌控在自己手里的，正是荷兰的阿斯麦公司。

不过如今这样的局面恐怕又要被中国企业所打破，在2020年的七月份，国内就专门针对半导体行业提出了发展规划，要求在2025年以前，完成国产光刻机自给率达到70%的目标，并且给出了非常丰厚的优惠待遇。

在这样的布局推动下，国内的各大企业纷纷在光刻机的研发制造商加码，号称“国家队”的中科院更是倾尽全力组建了研发团队，旨在攻克高端光刻机的核心技术。前不久在物理研究院的努力下，国内第一台辐射光源设备马上就要组装完工，未来国产高端光刻机的研发就离不开它的支持。

面对国内技术人员的成就突破，央视都开始出面表扬，专门采访录制了这一国产技术的研发，并在新闻上加以褒奖。

百花齐放

除了这类光源设备，中科科美还带来了另一个好消息，一种国产自研的镀膜装置也正是被研发出来，目前甚至已经提前投入了生产。

这类装置的主要作用是利用物理镜头对芯片膜层进行投影聚光，简单来说就像是一个放大镜，芯片不是体积小吗？那就利用这种镀膜装置，放大对芯片的观察，以实现精准镀膜和芯片的排列。

这一装置的研发意义在于打破了国外企业蔡司的垄断，使得中国成了国际上第二个能够研发光刻机镜头装置的国家。

不仅如此，国内高端EUV光学镜头的研发进程也在慢慢推进，在不少的核心领域都有了中国科研人员的身影。

日本的垄断梦破碎

大家别看咱们在芯片制造设备上取得了一系列成就，我们在芯片制造所需要的材料方面还一直受日本企业的垄断。

就拿芯片原料光刻胶来说，全球90%的光刻胶市场都在日本企业的手中牢牢攥着，即便是美国企业也只能勉强维持自给。

从上世纪开始，日本企业就迅速围攻美国光刻胶企业，随着东京应化等公司的不断壮大，全球光刻胶市场逐渐成了日本企业的天下，国内也被迫长期从日企手中购买光刻胶。

然而如今的时代已经变了，中国不仅不需要从日企手里拿材料，还能够通过自主研发，实现光刻胶的自给自足，而做出如此贡献的，是一个名叫南大光电的国产制造商。

前不久南大光电宣称，自家的7nm光刻胶产品生产技术已经得到了官方的专家验证，未来能够直接应用到7nm芯片的生产制造上。

要知道目前全球芯片的制造工艺多数都是以7nm为主流，不少高端手机品牌的旗舰机都采用了7nm芯片，像华为的麒麟系列就是7nm工艺。因此南大光电此次无疑是为国产顶尖芯片提供了材料的支持。

不仅如此，南大光电还着手培养国内光刻胶技术人才，组成了一个51人的顶尖光刻胶研发团队，为将来光刻胶国产化储备技术力量。

得益于对技术的不懈追求，南大光电已经申请到了91项具有自主知识产权的专利，其中国内的发明专利有81个，国际上的有4个，甚至还专门制定了三项国际光刻胶研发标准。

今年上半年，南大光电骄傲地表示，旗下所生产的ArF光刻胶已经能够在质量水平上比肩日本的产品，未来完全可以实现国产替代。

从光刻胶的进口研发受制于人，到如今由国内企业制定行业标准，中国的半导体企业正在以蓬勃发展的态势不断亮相国际舞台。随着南大光电不断拿下国内的订单，未来或许真的能够在半导体材料上取得自主化生产。

希望在其他领域也能涌现出南大光电这样的自研技术型企业，帮助国内在更多行业实现国产化替代。